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            邁可諾技術(shù)有限公司

            主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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            聯(lián)系電話(huà)

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            公司信息

            聯(lián)人:
            鄧經(jīng)理
            話(huà):
            4008800298
            機(jī):
            13681069478
            真:
            址:
            洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
            編:
            個(gè)化:
            www.mycro.net.cn
            網(wǎng)址:
            www.mycro.cn
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            http://www.apwanrong.com/st119375/
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            共計(jì) 10 條產(chǎn)品信息

            產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱(chēng)
            GK100桌面微型紫外光刻機(jī)
            GK100桌面微型紫外光刻機(jī)
            簡(jiǎn)單介紹:桌面微型紫外光刻機(jī),專(zhuān)為微米級(jí)圖案制作而設(shè)計(jì),旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度,其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上,為操作提供了便利與精準(zhǔn)。
            產(chǎn)品型號(hào):GK100   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2024-06-13
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            M-150和P-150韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)
            M-150和P-150韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)
            簡(jiǎn)單介紹:光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。
            產(chǎn)品型號(hào):M-150和P-150   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2024-05-17
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            L-100和M-100韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)
            L-100和M-100韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)
            簡(jiǎn)單介紹:光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。
            產(chǎn)品型號(hào):L-100和M-100   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2024-05-17
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner
            MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner
            簡(jiǎn)單介紹:MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner ),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
            產(chǎn)品型號(hào):MPEM-1600   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-17
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner
            MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner
            簡(jiǎn)單介紹:MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(光刻機(jī)Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
            產(chǎn)品型號(hào):MEMA-800   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-17
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            MSMA-1200M光刻機(jī)Mask MSMA
            MSMA-1200M光刻機(jī)Mask MSMA
            簡(jiǎn)單介紹:MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(光刻機(jī)Mask MSMA),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域??蛻?hù)如美國(guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。
            產(chǎn)品型號(hào):MSMA-1200M   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-17
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            MMA16光刻機(jī)Aligner MMA
            MMA16光刻機(jī)Aligner MMA
            簡(jiǎn)單介紹:MYCRO*荷蘭(光刻機(jī)Aligner MMA16),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域??蛻?hù)如美國(guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦
            產(chǎn)品型號(hào):MMA16   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-17
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機(jī)
            NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機(jī)
            簡(jiǎn)單介紹:MYCRO*美國(guó)恩科優(yōu)NXQ Mask Alignment光刻機(jī),是quanqiu*的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn),quanqiu售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
            產(chǎn)品型號(hào):NXQ4000系列   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-16
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            NXQ400-8NXQ掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)
            NXQ400-8NXQ掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)
            簡(jiǎn)單介紹:MYCRO*美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)(Mask Aligner),是*的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn),售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
            產(chǎn)品型號(hào):NXQ400-8   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-16
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
            NXQ800-6NXQ光刻機(jī)
            NXQ800-6NXQ光刻機(jī)
            簡(jiǎn)單介紹:MYCRO*美國(guó)NXQ光刻機(jī)(Mask Aligner),是*的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn),已售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
            產(chǎn)品型號(hào):NXQ800-6   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-16
            參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言
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